1. Сировине силицијум шипки
Сировине за производњу силицијума шипки углавном су високи - чистоћи поликристални силицијум. Поликристални силицијум се припрема поступцима као што су таложење паре, повлачења и електрохемијског пречишћавања. Што је виша чистоћа поликристалног силицијума, то је бољи квалитет стечених силицијума шипки.
2 Процес раста силицијума
Раст силицијумних шипки постиже се хемијским таложењем паре (ЦВД) или појединачни раст кристала (ЦЗ). У ЦВД методи, поликристалне силицијумске шипке реагују на високу температуру како би распадали силиконски гас и депонирали га на површину силицијумних шипки, постепено растући појединачне кристалне силицијумске шипке. У ЦЗ методи, поликристалне силицијумске шипке растопљене су на високом температури, а након додавања допаната, они прелазе у појединачне кристалне силицијумске шипке на једном кристално семенки силицијума.
3. Процес обраде силицијума шипки
Након завршетка раста силицијума, кораци за прераду, као што су сечење, брушење и полирање потребни су за добијање силиконских вафера који испуњавају захтеве. У производном процесу силиконских вафла потребна је строга контрола квалитета да би се осигурала чистоћа и димензионална тачност силицијума вафера.
4. Примена производње силицијума шипке
Производња широког шипке се широко користи углавном у индустрији полуводича, индустрије оптоелектронике, соларним ћелијама и другим пољима. Међу њима је полуводичка индустрија најчешће коришћена поље за силицијумске шипке, а силиконски вафли направљени од силицијумских шипка главни су материјал за полуводичке чипове. У оптоелектроничкој индустрији, силиконски вафери направљени од силицијума шипки углавном се користе за производњу оптичких влакана, соларних ћелија итд.